La fashion Week de New York s'attaque à la contrefaçon

Cette semaine de la Fashion Week à New York était riche en événements cette année : nouvelle enceinte prestigieuse au Lincoln Center, au coin de Broadway et de la 63ème rue, et inauguration d’un Institut du droit de la mode juste en face.
L’Institut du droit de la mode va dispenser des cours de propriété intellectuelle, d’enregistrement des croquis et des marques, de commerce international, et de législation nationale et internationale. Les cours seront ouverts aux étudiants en droit ainsi qu’aux élèves des écoles de couture et stylisme.
La présidente de l’Association des créateurs américains, Diane Von Furstenberg, affirmait l’importance des avocats qui connaissent la mode. En effet, avec tous les médias disponibles aujourd’hui, les défilés sont vus presque instantanément par des centaines de milliers de personnes à travers le monde, et rien n’est plus facile que de copier immédiatement les modèles, dans des ateliers clandestins (Asie, Italie, etc.).

La lutte contre la contrefaçon devient une priorité absolue. Même le Congrès américain va faire campagne dans ce sens. Son projet, baptisé « Loi sur l’innovation créative et la prévention de la contrefaçon », étendrait toutes les protections entourant les droits d’auteur aux dessins et patrons de mode, pendant une durée de trois ans après l’enregistrement.
Si la lutte contre le piratage est une priorité, au Lincoln Center la bataille contre les fraudeurs s’organise. Les assistantes ont été remplacées par des ordinateurs et des machines électroniques. Plus possible donc d’inscrire soi-même un faux numéro de siège ou de rang sur l’invitation: le code-barres est scanné.

publié le 20/09/2010